2025年

半年度国内

钙钛矿整线设备

出货实绩

本年度（截至2025年6月30日）杭州鼎能光电科技有限公司钙钛矿制程核心设备出货量突破30台！是2025年鼎能光电重要里程碑事件，彰显了公司在钙钛矿光伏设备领域的技术实力，为钙钛矿电池的商业化应用奠定了坚实的基础，让我们一起回顾这些精彩瞬间吧！

钙钛矿整线设备出货

2025年5月，鼎能光电科技有限公司的钙钛矿整线设备正式出货并顺利完成交付。此次整线设备包含PVD磁控溅射系统、精密狭缝涂布系统、真空制晶系统等核心制程设备，同时为客户提供包含基础工艺的turnkey工程。凭借强大的自主研发实力，鼎能光电已成功打造行业领先的"工艺-设备-产线"三维协同创新体系。

2025年2月，鼎能光电自研钙钛矿整线设备顺利出货并交付至客户场内，此次出货的钙钛矿整线设备主要包含独家低损伤 PVD 磁控溅射镀膜设备、PVD 热蒸发镀膜设备、狭缝涂布设备、真空制晶设备、激光划线、清边设备等。设备已在客户场内试运行，可实现设备之间的高度耦合以及高效稳定运行，不仅大幅提升了生产效率，还降低了研发生产成本，顺利通过客户技术验证。

磁控溅射镀膜设备

PVD磁控溅射镀膜设备，是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法，用于制作钙钛矿电池的对电极层，ETL电子传输层，HTL空穴传输层以及TCO透明导电氧化物。

鼎能光电2025年上半年已为客户提供近10台磁控溅射镀膜设备。依据客户针对产业大型化、低损伤的核心需求，鼎能光电定向突破：低损伤磁控溅射镀膜设备，以精密工艺控制实现薄膜沉积损伤率再降，为高纯度、高性能膜层制备提供稳定保障；量产线 - 磁控溅射镀膜设备，适配超宽幅面组件生产，契合光伏产业 “降本增效” 的规模化趋势。

1.低损伤磁控溅射镀膜设备

2.量产线-磁控溅射镀膜设备

热蒸发镀膜设备

PVD热蒸发镀膜设备，是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术，用于制作钙钛矿电池的对电极层，ETL电子传输层以及钙钛矿膜层。

鼎能光电2025年上半年已为客户提供不同尺寸热蒸发镀膜设备，适配于不同基底叠层钙钛矿电池。从实验室验证到产线轰鸣，每一台设备都历经客户现场严苛测试，如今设备已在客户现场全面投入量产环节，用稳定运行的数据印证 “鼎能智造” 的可靠性。

涂布三件套

狭缝涂布技术是一种微细加工技术，主要应用于材料涂覆和打印等方面。使用狭缝涂布技术可以制造更高精度、更均匀、更具可重复性的薄膜材料。涂布设备三件套用于制作钙钛矿电池的钙钛矿膜层以及钙钛矿修饰层。

2025 年，钙钛矿光伏产业迎来规模化落地关键期，鼎能光电以扎实交付力，成为这场产业革命的 “设备后盾”—— 年初至今，多套钙钛矿涂布三件套设备接连奔赴国内头部光伏企业，以稳定性能与定制化设计，赢得客户高度认可。

作为钙钛矿电池制备的核心设备，涂布三件套直指核心工艺痛点：从精准控制涂层厚度的狭缝涂布，到保障薄膜均匀性的涂布单元，再到适配不同基材的干燥系统，鼎能光电通过模块化设计，既满足实验室小试的精密需求，更适配量产线的高效稳定，完美衔接 “研发 - 量产” 全链条。

连续交付的背后，是鼎能对产业需求的深度洞察：2025 年全球钙钛矿产线加速从 MW 级向 GW 级跨越，对涂布设备的 “速度、精度、兼容性” 提出三重考验。鼎能三件套设备经客户现场验证，不仅实现涂层厚度偏差＜±2%，更将单批次生产效率提升30%，成为产线达产的 “关键拼图”。

以技术响应需求，以交付见证实力。鼎能光电始终站在光伏设备创新前沿，用定制化解决方案赋能客户，让更多高效、稳定的光伏产品从 “实验室” 走向 “大市场”，与行业共赴钙钛矿产业化的黄金时代。