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TOPCON 工艺提升31问

日期:2021-10-11    来源:光伏技术共享交流

国际太阳能光伏网

2021
10/11
15:46
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关键词: TOPCon电池 光伏电池 光伏电池生产线

硼扩:从目前的硼扩掺杂技术来分,主要有:低压的管式扩散、旋涂硼源扩散、常压管式扩散、离子注入+退火

1、TOPCon 成本降低的降本潜力。

回复:TOPCon成本下降的潜力很大,随着电池制程表现的不断提高,非硅成本必然会降低;另外,银浆的耗量以及成本的下降空间也很大;投资额低导致整个设备的折旧成本也低;

另外,我司的硼扩、LPCVD等关键设备也已经实现了国产化,设备上也是致力于大产能低运营成本,有利于推动TOPCon技术的降本工作。

2、目前业内有哪几家在用此技术,是否是嫁接在现有产线上还是全新产线?效果如何?

回复:业内主要有中来、天合等,基本上都是全新线。另外,据了解,很多企业,新上PERC产线都都预留了TOPCon升级空间,目前的效率能够达到23.5-23.8%左右,良率也基本在93%-94%左右。

另外,据了解,很多企业,新上PERC产线都都预留了TOPCon升级空间,目前的效率能够达到23.3-23.5%左右,良率也基本在93%-94%左右。

3、除了N型硅片,TOPCon还需要何种新材料?供应前景如何?

回复:TOPCon技术,N 型和P型都可以做,基本不需要新的材料,其与PERC的材料没有明显差异,整体材料的供应没有问题。

4、不同沉积方式的差别(LPCVD PEALD APECVDMAIA);

回复:主要还是LPCVD和PECVD的差异。从目前来看的话,LPCVD的成膜质量更好,而且其产能大,维护比较方便;

PECVD虽然沉积速度快,但是可能出现爆膜以及造成粉尘的产生。

5、集成原位掺杂与单独磷注入的差别

回复:原位掺杂因为磷烷抑制了非晶硅的成膜速率,会导致其均匀性变差。另外它要兼容均匀性和方阻,所以控制会比较难;

而用本征来做磷扩,兼容性会比较好,也容易控制。

6、PERC升级TOPCon工艺路线的设备成本;

回复:这个要看实际状况,相信大家都能理解,一般GW级别目前大概在5-6千万左右,仅供参考;

7、生产运行中SIO2的厚度如何检测?

回复:生产运行中,二氧化硅的厚度是很难检测的,其实我们也不建议在生产过程中做二氧化硅的检测,可以从其他工序的监控反应出来,比如从方阻就可以看出来。

8、LPCVD方式的优点、均匀性情况?

回复:LPCVD的优点:产能大,易于维护,是一个比较成熟的设备;而均匀性目前可以做到433这样水平。

9、TOPCon对浆料的要求?

回复:要求较高,从去年的整体情况看,浆料对于整体电性能提升作用很大,当然也意味着较大的降本空间。

10、绕镀的宽度对绕镀清洗的影响,绕镀清洗的难点有哪些?目前的绕镀清洗方式有哪些。

回复:绕镀的宽度对于绕镀的清洗难易有关,宽度越大,清洗越困难,比如会导致清洗不均匀、外观不良或者EL不良。

目前主要的绕镀去除方式是酸刻和碱刻。

11、正面氧化铝钝化之前是否还有必要增加热氧?

回复:个人认为不需要增加热氧,目前来看氧化铝的本身钝化的效果就比较好。

12、正面氧化铝是否可以用其他钝化膜代替

回复:正面氧化铝可以用其他的钝化膜来代替,但是目前氧化铝的本身钝化效果就比较好,另外其工艺也比较成熟,成本也比较低。

13、对于TOPCon而言,PECVD方式氧化铝和ALD方式氧化铝有什么差异

回复:TOPCon在绒面的钝化是在正面进行,在绒面上进行钝化,PECVD的生长速率快,可能会导致钝化效果略差于ALD。

14、TOPCon产线设备投资相对于PERC比较优势的临界点在哪里(转化率优势达到多少,设备投资额差距多少)。预计这个临界点出现在什么时候。

回复:个人认为,关键临界点就在眼前,因为目前PERC的效率基本已经到极限,而TOPCon在市场上已经有GW级别的量产,整体的运行状况也较好,效率可以做到23.3-23.5%,良率也基本超过90%,运营成本也在不断降低中。

15、N-TOPCon现在的实际良率和量产效率怎么样?现在国内规模大概多少呢?另外,贵公司针对P-TOPCon方面有和国内外企业做过研究测试吗?大体情况如何?

回复:N-TOPCon我司实际量产效率在23.5-23.8,国内的规模约4-5GW, P-TOPCon已经有一些研究机构已经做出来了,效率也比较高。P型TOPCon和N型TOPCon只是电池路线差异,我司的设备均可以使用。

16、目前新建1GW的TOPCon产线,大约多少亿。

回复:大概2.5亿左右吧。最终要看各家配置。

17、新的TOPCon产线是否兼容166和210尺寸的电池

回复:我司的设备是可以实现全尺寸兼容。

18、未来两三年N型硅片的主流尺寸和片厚会是怎样?

回复:目前只能说大尺寸肯定是未来的趋势。

19、PL技术在TOPCon中的应用;

回复:PL是在TOPCon的一个标配,对于效率异常的排查,对于效率的提升都是非常有帮助的。

20、如何在设备端和载具上解决绕镀?

回复:我司设备的绕镀基本控制在硅片的边缘1cm左右,我们还在不断努力的开发无绕镀的设备。

21、对于多晶硅绕镀清洗,酸碱法清洗谁更有优势,链式和槽式谁更有优势;

回复:目前酸碱都能去除,最终还是要看工艺的匹配以及综合性价比来选择。

22、N-TOPCon扩散工艺会使用到BBr3或BCl3气体,请问两者优缺点为何?

回复:BBr3使用比较多,尤其是光伏,以说其整体的设备市场占有率较高。

BCl3的运营成本包括BOM成本以及设备维护保养成本,其整体的运营成本还是优于BBr3。

23、TOPCon技术与现有组件技术能否有效兼容,比如叠片,半片,大硅片,双面等。

回复:TOPCon能够有效的兼容半片、叠片、大硅片以及双面组件;

24、PERC+可以叠加TOPCon技术进去的,另外,拉普拉斯的LP炉管寿命是多久?

回复:关于延长石英管寿命,目前有很多方法予以解决。

25、水平放片,下面那片不会有很重的舟齿印?因为重力压紧了,气体进不去。

回复:不会,舟印只跟石英舟的质量或者清洗饱和工艺有关系。水平的最佳优势就是气体在硅片表面的分布,而齿与齿之间也是有间距的。

26、低压状态下分子自由程大,如何避免水平放片下层流状态扩散不充分的情况?

回复:低压状态下分子自由程大有利于气体分布均匀,对于水平放片对于气流无阻挡所以压力需求不会要求很低,对于泵的要求也没有竖直及菱形插片高。

27、水平放片自动化设备配套情况?

回复:市面上的主流自动化厂家都能配置。

28、能否采用BBr3来代替BCl3,是否具备原位清洗功能?

回复:对于我们来说BCl3使用效果比BBR3效果好所以不会考虑替换,原位清洗功能可根据客户需求增加。

29、硼扩散方阻范围和方阻均匀性?

回复:100~120ohm/squ可以做到4%/4%/3%。

30、石英件是否有做特殊涂层?使用寿命如何?

回复:有做,目前使用效果良好。

31、请问如果保证TOPCon钝化的均匀性问题?这个均匀性直接以何种方式表现在电池的电性能参数上?开压和电流的收敛性如何保证?电池串的明暗片如果控制?

回复:钝化均匀性只要钝化工序的均匀性做好即可,主要体现电性参数开压和FF上;

开压和电流的收敛性只要制程管控好就能保证,电池明暗片可以参考PERC/HIT。


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