21年仍为扩产大年，预计新增电池能100-120GW
2020年电池片环节扩产规模约80GW，2021年扩产规模约100-120GW。根据我们对电池片厂商扩产数据的微观统计，预计2020年电池片环节已经落地的扩产规模约80GW，预计在2021年落地的扩产规模约100-120GW。
值得注意的是，由于电池片制造厂商的扩产计划落地与电池片设备制造厂商的新签订单之间存在时滞，行业的扩产节奏与设备厂商的新签订单可能存在“错位”情况。
在“平价上网”、碳中和等因素的驱动之下，行业未来的增长较为确定；而多种技术并行的现阶段，由于技术进步的节奏和方向无法提前预知，技术领先、布局全面的龙头公司风险较小，也更有可能享受到行业增长和技术进步的红利。
技术并行，设备随之起舞
首先，我们对技术路线和对设备的影响做一个简单的总结。
（1）PERC+：PERC+是在基础的PERC产线（下图左边蓝色色块）上增加若干设
备，已达到改善电池性能的目的，图中我们以激光SE、光再生（绿色色块）作为例子，对应的需要增加激光掺杂设备、光注入/电注入设备。
（2）TOPCon：图中黄色色块为TOPCon在PERC基础产线上改变或者增加的工艺，可以最大化的利用现有PERC产线和工艺经验积累，增加的设备包括LVCVD/PECVD、离子注入机、退火炉、刻蚀设备等，不同的技术路线所对应的设
备有所不同，前文已经介绍过，此处不再赘述，目前的设备投入约2.5亿/GW，PERC产线升级为TOPCon产线约8000万/GW，不同的工艺路线会有些许区别。
（3）HJT：HJT的生产工艺只有四步，对应的设备包括清洗制绒设备、非晶硅薄膜沉积设备（PECVD或者Cat-CVD）、TCO膜沉积（PVD或者CVD）、丝印与烧结设备等，目前对应设备投入约4.5亿/GW。
值得注意的是，虽然某些工序/设备名称一样，但是实际区别较大，例如PECVD设备，PECVD全称为等离子体增强化学气相沉积法（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition），实际是一种钝化/镀膜方式，可以用来沉积不同的薄膜。在PERC中用来沉积SiNx薄膜与钝化AlOx薄膜，在TOPCon中用来钝化氧化硅薄膜与沉积本征多晶硅薄膜，在HJT中用来沉积非晶硅薄膜，因为沉积的薄膜不同，设备的构成、镀膜速度、投入等存在巨大差别。
预计2021年光伏设备市场规模约234亿元，未来5年复合增长率约24.04%。我们通过对国内/全球新增装机、产能利用率、不同技术路线的在新增产能中的占比以及产线投入作出假设，得到2021-2025年的光伏设备市场规模为234/290/343/489/508亿元，复合增长率约24.04%。
