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SERIS研究人员推出新多晶硅织构技术

国际太阳能光伏网  来源:国际能源网  作者:刘鑫  日期:2018-03-27
  SERIS的一个科学家小组宣布开发了一种新的金刚石线切割多晶硅(multi-cSi)晶圆的工艺技术。该湿化学技术使晶圆表面具有纳米级特性,增加了光在表面多次反射并被晶片材料吸收的可能性。
 
  根据SERIS的说法,这项技术使用的是特有的化学物质,而且成本低,可扩展,并且可以很容易地集成到电池生产线中。
 
  
 
  几年前金刚石线锯的出现为光伏制造业削减了巨大的生产成本,但由于材质问题,该技术最初仅适用于单晶硅晶圆。
 
  目前有几种解决方案已经商业化,包括活性离子刻蚀的“黑硅”技术,金属催化化学刻蚀以及德国Schmid开发的DW Pretex工艺。尽管如此,SERIS相信它的新工艺为制造商带来进一步的好处,尤其是与黑硅工艺相比。
 
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